日系大手企業 / レイアウト・マスク・リソグラフィ設計技術[D] ※複数名採用予定

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レイアウト・マスク・リソグラフィ設計技術[D] ※複数名採用予定

日系大手企業

求人ID:NKW80643996

情報提供元

株式会社パソナ 人材紹介事業本部(人材紹介事業本部)

  • 従業員1000名以上
  • フレックスタイム制
  • 土日祝日休み
  • 年間休日120日以上
  • 急募求人

同社の業界に精通したキャリアアドバイザーがサポートさせていただきます。
株式会社パソナ 人材紹介事業本部は、東証一部上場パソナグループにおいて、無料転職サポートを提供しております。女性の転職の支援実績多数。取り扱い求人数は、正社員求人を中心に50,000件以上にのぼります。「ロールモデルとなる女性管理職が在籍しているか」「女性が長期的に働き続けられる社風か」など、求人票からはわからないリアルな情報を提供します。今後のキャリアについてお考えの方は、ぜひご相談ください。

求人情報詳細

仕事内容

◆メモリ製品開発の初期段階からあらかじめ製造のし易さを考慮して設計する「製造性考慮設計(DFM: Design for Manufacturability)」の研究開発。
ご経験やご志向を考慮の上、

・シミュレーション技術の研究開発
 (光学、プロセス、機械学習、数理最適化)
・シミュレーションを活用したレイアウト、マスク、
 リソグラフィ設計の研究開発
・メモリ製造用レイアウト設計、光近接効果補正
 (OPC: Optical Proximity Correction )技術の研究開発
・新規計算技術(AI、TCAD)、計算機利用技術(クラウド)の開発
上記いずれかを担当頂きます。
■製造性考慮設計を実現する為には、設計部門のみならず、技術部門、製造部門、ソフトウェア・ハードウェアベンダー、研究機関(国内外大学等)との連携が不可欠。各部門と連携し最適設計を実現することが業務となります。

※職務内容の詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。
応募資格 ■以下いずれかに該当される方
・光学設計・光学シミュレーションの知見をお持ちの方
・TCADなどプロセスシミュレーションの経験をお持ちの方
・科学計算、数理最適化、機械学習の経験や
 プログラミング技術をお持ちの方
・半導体レイアウト設計の知見のある方
・大規模システム構築の経験をお持ちの方

※ご経験分野不問。半導体デバイスのみならず、カメラや液晶ディスプレイなど各種光学技術応用製品、プリント基板、情報システムなど幅広い分野の経験を活かしていただけます。
年収・給与 400万円~1000万円
詳細勤務
条件
勤務地 神奈川県
勤務時間 08:30~17:15
休日
休暇
完全週休二日(土日)

年間休日125日
雇用形態 正社員

求人会社概要

求人会社名 日系大手企業
設立 2017年
資本金 4734億2400万円
従業員数 9000名
概要 非公開求人のため、求人の詳細はご面談時にお伝え致します。まずはお気軽にご応募ください。
業種 半導体関連