外資系中堅企業 / プロセス開発

新着

プロセス開発

外資系中堅企業

求人ID:NKW80520201

情報提供元

株式会社パソナ 人材紹介事業本部(人材紹介事業本部)

  • 外資系
  • 語学(英語)を生かす
  • 住宅補助制度
  • 土日祝日休み
  • 年間休日120日以上
  • 急募求人

同社の業界に精通したキャリアアドバイザーがサポートさせていただきます。
株式会社パソナ 人材紹介事業本部は、東証一部上場パソナグループにおいて、無料転職サポートを提供しております。女性の転職の支援実績多数。取り扱い求人数は、正社員求人を中心に50,000件以上にのぼります。「ロールモデルとなる女性管理職が在籍しているか」「女性が長期的に働き続けられる社風か」など、求人票からはわからないリアルな情報を提供します。今後のキャリアについてお考えの方は、ぜひご相談ください。

求人情報詳細

仕事内容

半導体製造装置(プラズマCVD、プラズマALD-薄膜形成装置)
での薄膜形成プロセスの開発およびプロセス技術の改善、及び
デバイス層間絶縁膜(Low-k膜)、ゲート絶縁膜向けのHigh-k膜の新規開発



※職務内容の詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。
応募資格 ■下記いずれかのご経験をお持ちの方
▽半導体シリコンデバイスの成膜またはエッチングのプロセス開発経験
▽半導体微細加工プロセス装置に関する知識と材料技術/化学/物理での経験・知識
▽デバイス開発、真空蒸着、成膜プロセス、薄膜材料開発等の分野の研究(半導体・液晶問わず)
■英語力:TOEIC600点以上
(※海外顧客先出張があり、顧客や海外現地法人のエンジニアともコミュニケーションを取ります。)

【歓迎要件】
■プロセス・インテグレーション技術の経験
年収・給与 580万円~1000万円
詳細勤務
条件
勤務地 東京都
勤務時間 09:00~17:30
休日
休暇
完全週休二日(土日)

年間休日128日
雇用形態 正社員

求人会社概要

求人会社名 外資系中堅企業
設立 1982年
資本金 46億円
従業員数 238名
概要 非公開求人のため、求人の詳細はご面談時にお伝え致します。まずはお気軽にご応募ください。
業種 半導体関連